基于面形检测的光学元件多层膜均匀性测量
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王辉 ; 周烽; 喻波; 谢耀; 于杰; 刘钰; 王丽萍
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| 刊名 | 中国激光
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| 出版日期 | 2015-07-10 |
| 期号 | 07页码:267-272 |
| 关键词 | 测量 光刻技术 有限元分析 高复现性支撑装置 薄膜均匀性测量 |
| 中文摘要 | 为了测量光学元件多层膜膜厚均匀性指标,基于面形检测对多层膜均匀性测量方法进行了研究。分析了均匀性的测量过程以及影响因素,评估了元件面形检测复现性对测量结果的影响,建立了多层膜结构的有限元模型,计算分析膜层内应力对基底面形带来的影响。基于高复现性面形检测装置进行了测量方法的实验验证工作,实验结果表明:元件面形测量口径范围内膜厚分布均匀性优于0.1 nm[均方根(RMS)值];将测试结果转化为沿径向的轮廓分布结果,与基于反射率计的膜厚检测数据进行了对比,表明两种方法测试数据基本吻合,验证了基于面形检测方法评估光学元件多层膜均匀性的可行性。 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/53816]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王辉,周烽,喻波,等. 基于面形检测的光学元件多层膜均匀性测量[J]. 中国激光,2015(07):267-272. |
| APA | 王辉.,周烽.,喻波.,谢耀.,于杰.,...&王丽萍.(2015).基于面形检测的光学元件多层膜均匀性测量.中国激光(07),267-272. |
| MLA | 王辉,et al."基于面形检测的光学元件多层膜均匀性测量".中国激光 .07(2015):267-272. |
入库方式： OAI收割
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