极紫外波段变栅距光栅刻槽密度变化及光谱分辨能力分析
文献类型：期刊论文
| 作者 | 李文昊; 姜岩秀; 吴娜; 张桐; 王鹍 |
| 刊名 | 发光学报
 |
| 出版日期 | 2015-09-15 |
| 期号 | 09页码:1094-1099 |
| 关键词 | 变栅距光栅 球面波 刻槽密度 光谱分辨能力 |
| 中文摘要 | 针对应用于50~150 nm波段的变栅距光栅,采用球面波曝光系统进行优化设计,分析了不同宽度光栅的刻槽密度变化和光谱分辨能力。理论分析结果表明,光栅宽度为4 mm时,理论分辨能力高于14 000;光栅宽度为10 mm时,理论分辨能力约为9 000;光栅宽度为30 mm时,理论分辨能力急剧下降,约为3 000。光栅的宽度越大,其刻槽弯曲程度就越大,光栅的光谱分辨能力就越低,因此球面波曝光系统只适合制作宽度较小的变栅距光栅。 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/53890]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李文昊,姜岩秀,吴娜,等. 极紫外波段变栅距光栅刻槽密度变化及光谱分辨能力分析[J]. 发光学报,2015(09):1094-1099. |
| APA | 李文昊,姜岩秀,吴娜,张桐,&王鹍.(2015).极紫外波段变栅距光栅刻槽密度变化及光谱分辨能力分析.发光学报(09),1094-1099. |
| MLA | 李文昊,et al."极紫外波段变栅距光栅刻槽密度变化及光谱分辨能力分析".发光学报 .09(2015):1094-1099. |
入库方式： OAI收割
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