极紫外反射镜氧化物保护层的制备与表征
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王珣; 金春水 ; 李春; 匡尚奇
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| 刊名 | 光学学报
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| 出版日期 | 2015-03-10 |
| 期号 | 03页码:411-418 |
| 关键词 | 薄膜 极紫外保护层 直流反应磁控溅射 迟滞回线 |
| 中文摘要 | 极紫外(EUV)反射镜在使用过程中的氧化及表面碳污染沉积,严重影响了极紫外光刻(EUVL)技术的工业应用。为了延长EUV反射镜的稳定性与使用寿命,一般采取在Mo/Si多层膜表面添加保护层。采用直流反应磁控溅射技术,建立氧气流量与溅射电压之间的迟滞回线关系,进而准确掌握不同氧化物保护层所需氧气量,以此减少过多的活性氧对下层Mo/Si多层膜的影响,提高镜面的反射率。选用Ru O2与Ti O2两种保护层材料进行比较,根据充氧量的不同,分析不同反应阶段的薄膜特性。针对催化性和物理稳定性更好的Ti O2薄膜,在晶相、表面粗糙度、截面均匀性和化学组分等方面给予评价。研制出膜质致密均匀的非晶态Ti O2薄膜,其表面粗糙度优于100 pm;Ti O2纯度(质量分数)达97.2%;保护层厚度为2 nm的Mo/Si多层膜的反射率损失小于5%,满足EUV外多层膜的基本要求。 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/53892]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王珣,金春水,李春,等. 极紫外反射镜氧化物保护层的制备与表征[J]. 光学学报,2015(03):411-418. |
| APA | 王珣,金春水,李春,&匡尚奇.(2015).极紫外反射镜氧化物保护层的制备与表征.光学学报(03),411-418. |
| MLA | 王珣,et al."极紫外反射镜氧化物保护层的制备与表征".光学学报 .03(2015):411-418. |
入库方式： OAI收割
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