深紫外光刻光学薄膜
文献类型：期刊论文
| 作者 | 张立超 ; 才玺坤; 时光
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| 刊名 | 中国光学
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| 出版日期 | 2015-04-15 |
| 期号 | 02页码:169-181 |
| 关键词 | 深紫外光刻 超精密光学 膜系设计 光学性能保障 环境适应性 |
| 中文摘要 | 深紫外波段是目前常规光学技术的短波极限,随着波长的缩短,深紫外光学薄膜开发面临一系列特殊的问题;而对于深紫外光刻系统这样的典型超精密光学系统来说,对薄膜光学元件提出的要求则更加苛刻。本文主要介绍了适用于深紫外光刻系统的薄膜材料及膜系设计;对薄膜沉积工艺、元件面形保障、大口径曲面均匀性等超精密光学元件的指标保障关键问题进行了讨论;对环境污染与激光辐照特性等光刻系统中薄膜元件环境适应性的重要因素进行了深入分析。以上分析为突破高性能深紫外光刻光学薄膜开发瓶颈,更好地满足深紫外光刻等极高精度光学系统的应用需求指明了方向。 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/54065]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张立超,才玺坤,时光. 深紫外光刻光学薄膜[J]. 中国光学,2015(02):169-181. |
| APA | 张立超,才玺坤,&时光.(2015).深紫外光刻光学薄膜.中国光学(02),169-181. |
| MLA | 张立超,et al."深紫外光刻光学薄膜".中国光学 .02(2015):169-181. |
入库方式： OAI收割
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