异硫氰基含氟联苯乙炔液晶合成研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 刘胜; 申烦; 黄江涛; 张智勇; 戴志群; 彭增辉
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| 刊名 | 液晶与显示
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| 出版日期 | 2015-12-15 |
| 期号 | 06页码:895-903 |
| 关键词 | 异硫氰基 含氟联苯乙炔 高双折射率液晶 合成 |
| 中文摘要 | 本文合成了4个异硫氰基联苯乙炔类液晶化合物。通过1 HNMR、13 CNMR、19 FNMR、IR和MS谱图鉴定结构正确。用差示扫描热议(DSC)和偏光显微镜(POM)对化合物的相变温度进行了测试,发现所合成目标化合物均呈现向列相,其相变态温度范围在105~137℃,其双折射率高于0.47,可作为液晶光栅高双折射率液晶材料的有效组分。 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/54228]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘胜,申烦,黄江涛,等. 异硫氰基含氟联苯乙炔液晶合成研究[J]. 液晶与显示,2015(06):895-903. |
| APA | 刘胜,申烦,黄江涛,张智勇,戴志群,&彭增辉.(2015).异硫氰基含氟联苯乙炔液晶合成研究.液晶与显示(06),895-903. |
| MLA | 刘胜,et al."异硫氰基含氟联苯乙炔液晶合成研究".液晶与显示 .06(2015):895-903. |
入库方式： OAI收割
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