Projection photolithography method for fabricating continuous surface structure with aperture less than 10 μm
文献类型：会议论文
| 作者 | Shi Lifang; Zhang Weiguo; Dong Xiaochun; Ye Yutang; Du Chunlei |
| 出版日期 | 2010 |
| 会议名称 | Proceedings of the SPIE - The International Society for Optical Engineering |
| 会议日期 | 2010 |
| 卷号 | 7848 |
| 页码 | 78480T (6 pp.) |
| 通讯作者 | Shi Lifang |
| 收录类别 | EI ; ISTP |
| 语种 | 英语 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7674]  |
| 专题 | 光电技术研究所_微电子装备总体研究室（四室微光学） |
| 作者单位 | 中国科学院光电技术研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Shi Lifang,Zhang Weiguo,Dong Xiaochun,et al. Projection photolithography method for fabricating continuous surface structure with aperture less than 10 μm[C]. 见:Proceedings of the SPIE - The International Society for Optical Engineering. 2010. |
入库方式： OAI收割
来源：光电技术研究所
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