一种低渗透性热解碳涂层的制备方法以及化学气相沉积炉
文献类型：专利
| 作者 | 宋金亮; 贺秀杰; 谭捷; 张宝亮; 张东生; 夏汇浩; 赵明文; 朱智勇; 周兴泰 |
| 发表日期 | 2013-07-23 |
| 专利国别 | 中华人民共和国 |
| 专利号 | CN103361626 |
| 专利类型 | 发明 |
| 权利人 | 中国科学院上海应用物理研究所 |
| 中文摘要 | 本发明提供一种低渗透性热解碳涂层的制备方法以及化学气相沉积炉。所述方法包括：1）提供一种具有炉体的化学气相沉积炉，所述炉体内贯穿设有刚玉管；2）将待沉积的核石墨基体悬空设置于刚玉管中；3）向刚玉管中通入氩气，并将炉体升温至1050～1300℃；4）继续通入氩气，并通入甲烷，设置甲烷和氩气的质量比为（750～1125）:（250～375）；或停止通入氩气，通入甲烷和氢气，设置甲烷和氢气的质量比为（800～1300）:（160～800）；5）关闭甲烷和氢气，继续通氩气，制得低渗透性热解碳涂层。本发明通过对气相沉积工艺各种参数的优化，制备出一种低渗透性热解碳涂层材料，尤其适用于核反应堆使用。 |
| 分类号 | C23C16/26;C23C16/44;C23C16/455 |
| 语种 | 中文 |
| 专利申请号 | CN201310312558 |
| 源URL | [http://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/25364]  |
| 专题 | 上海应用物理研究所_中科院上海应用物理研究所2011-2017年 |
| 作者单位 | 中国科学院上海应用物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 宋金亮,贺秀杰,谭捷,等. 一种低渗透性热解碳涂层的制备方法以及化学气相沉积炉. CN103361626. 2013-07-23. |
入库方式： OAI收割
来源：上海应用物理研究所
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