溅射气压对X射线多层膜反射率的影响
文献类型:期刊论文
作者 | 祝国龙; 冯仕猛; 邵建达; 易葵; 范正修 |
刊名 | 光子学报
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出版日期 | 2001 |
卷号 | 30期号:5页码:572 |
中文摘要 | 本文在不同的溅射气压的情况下制备了具有相同结构参量的 Mo/ Si多层膜 ,测出了其对应的小角度 X衍射曲线 ,在北京同步辐射实验室测量了多层膜的软 X射线反射率 .小角 X射线衍射谱表明 :随着溅射气压升高 ,多层膜的小角 X射线衍射曲线的高次峰的峰高急剧变小 ,半峰宽变大 .反射率测量结果也表明 :多层膜的 X射线反射率随溅射气压的升高而急剧降低 |
收录类别 | CSCD |
语种 | 中文 |
CSCD记录号 | CSCD:621056 |
版本 | 出版稿 |
源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/17436] ![]() |
专题 | 上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心 |
作者单位 | 1.祝国龙, 中科院上海光学精密机械所, 上海 201800, 中国. 2.冯仕猛, 中科院上海光学精密机械所, 上海 201800, 中国. 3.邵建达, 中科院上海光学精密机械所, 上海 201800, 中国. 4.易葵, 中科院上海光学精密机械所, 上海 201800, 中国. 5.范正修, 中科院上海光学精密机械所, 上海 201800, 中国. |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 祝国龙,冯仕猛,邵建达,等. 溅射气压对X射线多层膜反射率的影响[J]. 光子学报,2001,30(5):572. |
APA | 祝国龙,冯仕猛,邵建达,易葵,&范正修.(2001).溅射气压对X射线多层膜反射率的影响.光子学报,30(5),572. |
MLA | 祝国龙,et al."溅射气压对X射线多层膜反射率的影响".光子学报 30.5(2001):572. |
入库方式: OAI收割
来源:上海光学精密机械研究所
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