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溅射气压对X射线多层膜反射率的影响

文献类型:期刊论文

作者祝国龙; 冯仕猛; 邵建达; 易葵; 范正修
刊名光子学报
出版日期2001
卷号30期号:5页码:572
中文摘要本文在不同的溅射气压的情况下制备了具有相同结构参量的 Mo/ Si多层膜 ,测出了其对应的小角度 X衍射曲线 ,在北京同步辐射实验室测量了多层膜的软 X射线反射率 .小角 X射线衍射谱表明 :随着溅射气压升高 ,多层膜的小角 X射线衍射曲线的高次峰的峰高急剧变小 ,半峰宽变大 .反射率测量结果也表明 :多层膜的 X射线反射率随溅射气压的升高而急剧降低
收录类别CSCD
语种中文
CSCD记录号CSCD:621056
版本出版稿
源URL[http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/17436]  
专题上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心
作者单位1.祝国龙, 中科院上海光学精密机械所, 上海 201800, 中国.
2.冯仕猛, 中科院上海光学精密机械所, 上海 201800, 中国.
3.邵建达, 中科院上海光学精密机械所, 上海 201800, 中国.
4.易葵, 中科院上海光学精密机械所, 上海 201800, 中国.
5.范正修, 中科院上海光学精密机械所, 上海 201800, 中国.
推荐引用方式
GB/T 7714
祝国龙,冯仕猛,邵建达,等. 溅射气压对X射线多层膜反射率的影响[J]. 光子学报,2001,30(5):572.
APA 祝国龙,冯仕猛,邵建达,易葵,&范正修.(2001).溅射气压对X射线多层膜反射率的影响.光子学报,30(5),572.
MLA 祝国龙,et al."溅射气压对X射线多层膜反射率的影响".光子学报 30.5(2001):572.

入库方式: OAI收割

来源:上海光学精密机械研究所

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