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制备超薄多层膜的自动转速控厚法

文献类型:期刊论文

作者祝国龙; 冯仕猛; 邵建达; 汤兆胜; 易葵; 范正修
刊名中国激光
出版日期2001
卷号28期号:11页码:1027
中文摘要在转速控厚法的基础上 ,排除了射频溅射的电磁干扰 ,实现了自动转速控厚法。用这种方法镀制超薄多层膜时 ,可以实时记录下镀制每层膜的沉积时间、自动切换转速、完成设定周期后自动停止转动。自动转速控厚法与转速控厚法相比 ,明显降低了多层膜制备的劳动强度 ,提高了多层膜制备的成品率和监控精度。而且将在镀制复杂膜系多层膜时 ,具有更加明显的优势
收录类别EI
语种中文
版本出版稿
源URL[http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/17539]  
专题上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心
作者单位1.祝国龙, 中科院上海光学精密机械所, 上海 201800, 中国.
2.冯仕猛, 中科院上海光学精密机械所, 上海 201800, 中国.
3.邵建达, 中科院上海光学精密机械所, 上海 201800, 中国.
4.汤兆胜, 中科院上海光学精密机械所, 上海 201800, 中国.
5.易葵, 中科院上海光学精密机械所, 上海 201800, 中国.
6.范正修, 中科院上海光学精密机械所, 上海 201800, 中国.
推荐引用方式
GB/T 7714
祝国龙,冯仕猛,邵建达,等. 制备超薄多层膜的自动转速控厚法[J]. 中国激光,2001,28(11):1027.
APA 祝国龙,冯仕猛,邵建达,汤兆胜,易葵,&范正修.(2001).制备超薄多层膜的自动转速控厚法.中国激光,28(11),1027.
MLA 祝国龙,et al."制备超薄多层膜的自动转速控厚法".中国激光 28.11(2001):1027.

入库方式: OAI收割

来源:上海光学精密机械研究所

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