溅射功率对多层膜质量的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 冯仕猛; 赵海鹰; 窦晓鸣; 范正修; 邵建达 |
| 刊名 | 光学学报
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| 出版日期 | 2002 |
| 卷号 | 22期号:11页码:1300 |
| 其他题名 | Influence of Sputtering Power on Optical Quality of Thin Film |
| 中文摘要 | 用磁控溅射技术制备薄膜，用X射线衍射研究在基片和靶间距离固定的情况下不同的溅射功率对薄膜结构的影响。结果表明：过低的溅射功率下淀积的薄膜有畸变的X射线衍射特征峰，特征峰强度小，半峰全宽大。而比较高溅射功率得到的薄膜有比较尖锐的X射线衍射特征峰，强度高和半峰全宽非常窄。研究表明，X射线衍射特征峰强度小和半峰全宽大的薄膜结构疏松，而强度高和半峰全宽非常窄的薄膜结构致密。 |
| 英文摘要 | The thin films were fabricated by varying the magnetron sputtering power in order to investigate the influence of the sputtering power on the structure of thin films. The results show that the thin film deposited at very low power has the distorted XRD characteristic peaks with low intensity and the large width of half peak, while the films deposited at high power show the sharp characteristic peak. The related investigations illustrate that the thin film deposited with low power has the loose structure, and that with high power has coherent structure. |
| 收录类别 | EI |
| 语种 | 中文 |
| 版本 | 出版稿 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/17836]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心 |
| 作者单位 | 1.冯仕猛, 上海交通大学物理系, 上海 200240, 中国. 2.赵海鹰, 上海交通大学物理系, 上海 200240, 中国. 3.窦晓鸣, 上海交通大学物理系, 上海 200240, 中国. 4.范正修, 中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800, 中国. 5.邵建达, 中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800, 中国. |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 冯仕猛,赵海鹰,窦晓鸣,等. 溅射功率对多层膜质量的影响[J]. 光学学报,2002,22(11):1300. |
| APA | 冯仕猛,赵海鹰,窦晓鸣,范正修,&邵建达.(2002).溅射功率对多层膜质量的影响.光学学报,22(11),1300. |
| MLA | 冯仕猛,et al."溅射功率对多层膜质量的影响".光学学报 22.11(2002):1300. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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