接近式光刻中斜照明改善分辨率的模拟与分析
文献类型：期刊论文
| 作者 | 赵永凯; 黄惠杰; 路敦武; 杜龙龙; 杨良民; 袁才来; 蒋宝财; 王润文 |
| 刊名 | 微细加工技术
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| 出版日期 | 2001 |
| 期号 | 2页码:9 |
| 中文摘要 | 根据菲涅尔 基尔霍夫衍射公式 ,推导出斜照明接近式光刻系统中硅片表面的光强分布 ,并在几种条件下进行了模拟数值计算 ,分析了斜照技术的实用条件及改善光刻分辨率的效果和应用前景。 |
| 语种 | 中文 |
| 版本 | 出版稿 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/17505]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_精密光电测控研究与发展中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 赵永凯,黄惠杰,路敦武,等. 接近式光刻中斜照明改善分辨率的模拟与分析[J]. 微细加工技术,2001(2):9. |
| APA | 赵永凯.,黄惠杰.,路敦武.,杜龙龙.,杨良民.,...&王润文.(2001).接近式光刻中斜照明改善分辨率的模拟与分析.微细加工技术(2),9. |
| MLA | 赵永凯,et al."接近式光刻中斜照明改善分辨率的模拟与分析".微细加工技术 .2(2001):9. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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