红移高功率大失谐驻波光场原子光刻
文献类型：期刊论文
| 作者 | 曾庆林; 霍芸生; 蔡惟泉; 王育竹 |
| 刊名 | 光学学报
 |
| 出版日期 | 2001 |
| 卷号 | 21期号:8页码:918 |
| 中文摘要 | 研究了红移大失谐驻波光场在高功率的情况下对原子束的聚焦特性 ,数值结果显示在激光功率较高的情况下 ,有实现原子光刻的可能。在单线功率输出为P =7W ,光斑尺寸为w0 =0 .1mm的Ar+ 离子激光束的条件下 ,Cr原子束在置于焦平面处的基板上所沉积的条纹半高宽度为 2 0nm左右 ,对比度为 4～ 5。提出了用增强腔来提高条纹对比度和减小色差的办法。在势阱深度增强 2 5 0 0倍时 ,沉积的条纹半高宽度为 5nm～ 10nm ,对比度约为 7,条纹有了明显的改善 |
| 收录类别 | EI |
| 语种 | 中文 |
| 版本 | 出版稿 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/17395]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_量子光学重点实验室 |
| 作者单位 | 1.曾庆林, 中科院上海光学精密机械所, 量子光学开放实验室, 上海 201800, 中国. 2.霍芸生, 中科院上海光学精密机械所, 量子光学开放实验室, 上海 201800, 中国. 3.蔡惟泉, 中科院上海光学精密机械所, 量子光学开放实验室, 上海 201800, 中国. 4.王育竹, 中科院上海光学精密机械所, 量子光学开放实验室, 上海 201800, 中国. |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 曾庆林,霍芸生,蔡惟泉,等. 红移高功率大失谐驻波光场原子光刻[J]. 光学学报,2001,21(8):918. |
| APA | 曾庆林,霍芸生,蔡惟泉,&王育竹.(2001).红移高功率大失谐驻波光场原子光刻.光学学报,21(8),918. |
| MLA | 曾庆林,et al."红移高功率大失谐驻波光场原子光刻".光学学报 21.8(2001):918. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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