原子光刻用亚稳态氖原子束源的研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 霍芸生; 蔡惟泉; 曾庆林; 鄢和明; 王育竹 |
| 刊名 | 中国激光
 |
| 出版日期 | 2002 |
| 卷号 | 29期号:1页码:40 |
| 其他题名 | Study on Metastable Neon Beam Source Used for Atom Lithography |
| 中文摘要 | 研制了一台用于原子光刻的亚稳态氖原子束源，其束流强度可达3.3 * 10~(14) atoms/s·Sr.。研究了束流强度的变化规律，并对其机理进行了探讨。 |
| 英文摘要 | A neon metastable beam source was built up, from which Neon metastable beam of the intensity of 3.3 * 10~(14) atoms/s·Sr was generated. The characteristics of the metastable Neon beam were studied, and the corresponding mechanisms are discussed. |
| 收录类别 | EI |
| 语种 | 中文 |
| 版本 | 出版稿 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/17889]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_量子光学重点实验室 |
| 作者单位 | 1.霍芸生, 中国科学院上海光学精密机械研究所, 量子光学开放实验室, 上海 201800, 中国. 2.蔡惟泉, 中国科学院上海光学精密机械研究所, 量子光学开放实验室, 上海 201800, 中国. 3.曾庆林, 中国科学院上海光学精密机械研究所, 量子光学开放实验室, 上海 201800, 中国. 4.鄢和明, 中国科学院上海光学精密机械研究所, 量子光学开放实验室, 上海 201800, 中国. 5.王育竹, 中国科学院上海光学精密机械研究所, 量子光学开放实验室, 上海 201800, 中国. |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 霍芸生,蔡惟泉,曾庆林,等. 原子光刻用亚稳态氖原子束源的研究[J]. 中国激光,2002,29(1):40. |
| APA | 霍芸生,蔡惟泉,曾庆林,鄢和明,&王育竹.(2002).原子光刻用亚稳态氖原子束源的研究.中国激光,29(1),40. |
| MLA | 霍芸生,et al."原子光刻用亚稳态氖原子束源的研究".中国激光 29.1(2002):40. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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