影响接触显微成像分辨率的若干因素分析
文献类型：期刊论文
| 作者 | 高鸿奕; 陈建文; 谢红兰; 陆培祥; 徐至展; 蒋诗平; 张新夷 |
| 刊名 | 核技术
 |
| 出版日期 | 2001 |
| 卷号 | 24期号:7页码:591 |
| 中文摘要 | 分析了影响较Ｘ射线接触显微成像分辨率的若干因素，如：记录过程中的辐射损伤，后续放大设备读出引进的误差，以及菲涅尔衍射效应等，并且提出改善分辨率的一些实用方法。 |
| 收录类别 | CSCD |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:631632 |
| 版本 | 出版稿 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/17448]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_强场激光物理国家重点实验室 |
| 作者单位 | 1.高鸿奕, 中科院上海光学精密机械所, 上海 201800, 中国. 2.陈建文, 中科院上海光学精密机械所, 上海 201800, 中国. 3.谢红兰, 中科院上海光学精密机械所, 上海 201800, 中国. 4.陆培祥, 中科院上海光学精密机械所, 上海 201800, 中国. 5.徐至展, 中科院上海光学精密机械所, 上海 201800, 中国. 6.蒋诗平, 中科院上海光学精密机械所, 同步辐射国家实验室, 上海 201800, 中国. 7.张新夷, 中国科学技术大学, 同步辐射国家实验室, 合肥, 安徽 230029, 中国. |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 高鸿奕,陈建文,谢红兰,等. 影响接触显微成像分辨率的若干因素分析[J]. 核技术,2001,24(7):591. |
| APA | 高鸿奕.,陈建文.,谢红兰.,陆培祥.,徐至展.,...&张新夷.(2001).影响接触显微成像分辨率的若干因素分析.核技术,24(7),591. |
| MLA | 高鸿奕,et al."影响接触显微成像分辨率的若干因素分析".核技术 24.7(2001):591. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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