用于大口径微透镜阵列匀光性能的子孔径拼接检测方法
文献类型：会议论文
| 作者 | 张方; 朱菁; 杨宝喜; 胡小邦; 王健; 吕向博; 黄惠杰 |
| 出版日期 | 2014 |
| 中文摘要 | 照明系统是光刻机中曝光系统的一个重要组成部分,其重要指标之一是照明均匀性,良好的照明均匀性是保证光刻机在大曝光场内获得均匀曝光线条宽度的必要条件。为了改善照明系统的照明均匀性,研究者提出了多种均匀化技术,诸如积分棒、衍射光学元件、微透镜阵列以及这些技术的结合等。相比之下,只有微透镜阵列能应用于高数值孔径投影光刻机,因为其在获得大尺寸照明光场的同时,还能保持的光束的偏振特性。光刻机是一种非常复杂的系统,其装配精度要求极高,在装配之前必须测定关键元器件的工作性能,用于匀光的微透镜阵列就是其中的关键元件之一。因为投影光刻机照明系统属于大视场和高NA照明系统,所以照明均匀化器件的整体尺寸比较大,... |
| 会议录 | 第十五届全国光学测试学术交流会论文摘要集
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| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/17256]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_信息光学与光电技术实验室 |
| 作者单位 | 1.中国科学院上海光学精密机械研究所 2.中国科学院大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张方,朱菁,杨宝喜,等. 用于大口径微透镜阵列匀光性能的子孔径拼接检测方法[C]. 见:. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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