光聚物材料中布喇格偏移的动态分析
文献类型：期刊论文
| 作者 | 翟凤潇 ; 李若平 ; 殷琼 ; 孙彩霞 ; 路海 ; 黄明举 |
| 刊名 | 光子学报
 |
| 出版日期 | 2006 |
| 卷号 | 35期号:12页码:1842 |
| 关键词 | 布喇格偏移 光致聚合物 缩皱 全息存储 |
| ISSN号 | 1004-4213 |
| 中文摘要 | 对光致聚合全息存储材料光化学反应过程和引起布喇格偏移的因素进行了分析，通过理论推导，得到了曝光时间与布喇格偏移量的关系．实验曲线表明，材料的布喇格偏移先是随着曝光量的增加而增加，最后达到饱和值．实验的结果与理论分析进行比较，两者符合较好，说明对于布喇格偏移随时间变化动态过程的分析比较合理． |
| 学科主题 | 光存储 |
| 分类号 | O438.1 |
| 收录类别 | ei |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2009-09-22 ; 2010-10-12 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/3897]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_高密度光存储技术实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 翟凤潇,李若平,殷琼,等. 光聚物材料中布喇格偏移的动态分析[J]. 光子学报,2006,35(12):1842, 1845. |
| APA | 翟凤潇,李若平,殷琼,孙彩霞,路海,&黄明举.(2006).光聚物材料中布喇格偏移的动态分析.光子学报,35(12),1842. |
| MLA | 翟凤潇,et al."光聚物材料中布喇格偏移的动态分析".光子学报 35.12(2006):1842. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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