Linear Plasma Sources for Large Area Film Deposition: A Brief Review
文献类型：期刊论文
| 作者 | Wei Y(魏钰); Zuo X(左潇); Chen LW(陈龙威); Meng YD(孟月东) ; Fang SD(方世东); Shen J(沈洁); Shu XS(舒兴胜)
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| 刊名 | plasma science and technology
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| 出版日期 | 2014 |
| 卷号 | 16期号:4页码:356-362 |
| 源URL | [http://ir.hfcas.ac.cn/handle/334002/20118]  |
| 专题 | 合肥物质科学研究院_中科院等离子体物理研究所 |
| 作者单位 | Institute of Plasma Physics, Chinese Academy of Sciences, Hefei 230031, China |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Wei Y,Zuo X,Chen LW,et al. Linear Plasma Sources for Large Area Film Deposition: A Brief Review[J]. plasma science and technology,2014,16(4):356-362. |
| APA | Wei Y.,Zuo X.,Chen LW.,Meng YD.,Fang SD.,...&Shu XS.(2014).Linear Plasma Sources for Large Area Film Deposition: A Brief Review.plasma science and technology,16(4),356-362. |
| MLA | Wei Y,et al."Linear Plasma Sources for Large Area Film Deposition: A Brief Review".plasma science and technology 16.4(2014):356-362. |
入库方式： OAI收割
来源：合肥物质科学研究院
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