中国科学院机构知识库网格
Chinese Academy of Sciences Institutional Repositories Grid
不同退火条件对磁控溅射CdS薄膜性能的影响

文献类型:期刊论文

作者张传军 ; 邬云骅 ; 曹鸿 ; 赵守仁 ; 王善力 ; 褚君浩
刊名红外毫米波学报
出版日期2013-01-01
卷号32期号:4
关键词CdS薄膜 磁控溅射 热退火 再结晶 带尾态
中文摘要采用磁控溅射法,在衬底温度300℃制备CdS薄膜,并选取370℃、380℃、390℃三个温度退火,获得在干燥空气和CdCl2源+干燥空气两种气氛下退火的CdS薄膜.通过研究热处理前后CdS薄膜的形貌、结构和光学性能表明,CdS薄膜在干燥空气中退火,晶粒度、表面粗糙度和可见光透过率变化不明显,光学带隙随退火温度的升高而增大;在CdCl2源+干燥空气中退火,随退火温度的升高发生明显的再结晶和晶粒长大,表面粗糙度增大,可见光透过率和光学带隙随退火温度的升高而减小.分析得出:上述性能的改变是由于不同的退火条件对CdS薄膜的再结晶温度和带尾态掺杂浓度改变的结果.
学科主题红外基础研究
公开日期2014-11-10
源URL[http://202.127.1.142/handle/181331/7698]  
专题上海技术物理研究所_上海技物所
推荐引用方式
GB/T 7714
张传军,邬云骅,曹鸿,等. 不同退火条件对磁控溅射CdS薄膜性能的影响[J]. 红外毫米波学报,2013,32(4).
APA 张传军,邬云骅,曹鸿,赵守仁,王善力,&褚君浩.(2013).不同退火条件对磁控溅射CdS薄膜性能的影响.红外毫米波学报,32(4).
MLA 张传军,et al."不同退火条件对磁控溅射CdS薄膜性能的影响".红外毫米波学报 32.4(2013).

入库方式: OAI收割

来源:上海技术物理研究所

浏览0
下载0
收藏0
其他版本

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。