莠去津分子印迹聚合物的合成及其吸附性能
文献类型：期刊论文
| 作者 | 霍佳平; 司士辉; 王颜红; 张红; 王世成; 林桂凤 |
| 刊名 | 合成化学
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| 出版日期 | 2010 |
| 期号 | 2页码:159-163 |
| 关键词 | 分子印迹聚合物 莠去津 模板分子 吸附性能 合成 |
| 中文摘要 | 以莠去津(1)为模板分子,甲基丙烯酸(MAA)为功能单体,乙二醇二甲基丙烯酸酯(EDMA)为交联剂,在偶氮二异丁腈(AIBN)的引发下,于65℃聚合17 h合成了对1有特异识别性能的分子印迹聚合物(2)。用紫外分光光度法探索了1与MAA的最佳比例,研究了2的吸附性能力,并利用高效液相色谱法对2的选择性进行了考察。用Scatchard法分析表明,2通过氢键作用力结合,存在两种结合位点,对1的吸附存在两种形态,最大表观吸附量(Qmax,1)为130.9 nmol.g-1,平衡离解常数(Kd,1)为30.8 nmol.L-1,Qmax,2为540.5 nmol.g-1,Kd,2为450.5 nmol... |
| 源URL | [http://210.72.129.5/handle/321005/78295]  |
| 专题 | 沈阳应用生态研究所_沈阳应用生态研究所_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 霍佳平,司士辉,王颜红,等. 莠去津分子印迹聚合物的合成及其吸附性能[J]. 合成化学,2010(2):159-163. |
| APA | 霍佳平,司士辉,王颜红,张红,王世成,&林桂凤.(2010).莠去津分子印迹聚合物的合成及其吸附性能.合成化学(2),159-163. |
| MLA | 霍佳平,et al."莠去津分子印迹聚合物的合成及其吸附性能".合成化学 .2(2010):159-163. |
入库方式： OAI收割
来源：沈阳应用生态研究所
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