反应磁控溅射制备SiO_x渐变折射率红外梳状滤光片Graded refractive-index SiOx infrared rugate filter prepared by reactive magnetron sputtring
文献类型：期刊论文
| 作者 | 宋秋明; 黄烽; 李明; 谢斌; 王海千; 姜友松; 宋亦周 |
| 刊名 | 中国激光Chinese Journal of Lasers
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| 出版日期 | 2009 |
| 卷号 | 36期号:8页码:2144-2149 |
| 英文摘要 | 梳状滤光片是一种特殊的非均匀光学薄膜器件,其膜层折射率渐变分布结构使它与常规均匀光学薄膜相比具有更好的光学和机械性能。利用反应磁控溅射工艺,改变沉积SiO_x(0≤x≤2)膜氧化程度,获得折射率从2.74逐渐变化到1.58(λ=1550 nm)的SiO_x渐变折射率薄膜材料。通过调制膜层折射率振幅和引入膜层-外部介质折射率匹配层,成功地设计并制备了具有较好光学性能的SiO_x渐变折射率红外梳状滤光片光学薄膜器件。使用单一的硅溅射靶材,通过改变氧化程度获得可变折射率材料的方法,为特殊光学薄膜器件的制备提供了一种经济实用的工艺路线。 |
| 收录类别 | EI |
| 原文出处 | http://avspublications.org/jvsta/resource/1/jvtad6/v26/i2/p265_s1 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://ir.siat.ac.cn:8080/handle/172644/2335]  |
| 专题 | 深圳先进技术研究院_集成所 |
| 作者单位 | 中国激光Chinese Journal of Lasers |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 宋秋明,黄烽,李明,等. 反应磁控溅射制备SiO_x渐变折射率红外梳状滤光片Graded refractive-index SiOx infrared rugate filter prepared by reactive magnetron sputtring[J]. 中国激光Chinese Journal of Lasers,2009,36(8):2144-2149. |
| APA | 宋秋明.,黄烽.,李明.,谢斌.,王海千.,...&宋亦周.(2009).反应磁控溅射制备SiO_x渐变折射率红外梳状滤光片Graded refractive-index SiOx infrared rugate filter prepared by reactive magnetron sputtring.中国激光Chinese Journal of Lasers,36(8),2144-2149. |
| MLA | 宋秋明,et al."反应磁控溅射制备SiO_x渐变折射率红外梳状滤光片Graded refractive-index SiOx infrared rugate filter prepared by reactive magnetron sputtring".中国激光Chinese Journal of Lasers 36.8(2009):2144-2149. |
入库方式： OAI收割
来源：深圳先进技术研究院
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