一种预投影光线投射体绘制的并行处理方法
文献类型：专利
| 作者 | 黄波 ; 刘思源 ; 郑倩 ; 姜志阳 ; 文高进 ; 冯圣中 ; 樊建平 |
| 发表日期 | 2008-07-21 |
| 专利国别 | 中国 |
| 专利号 | CN200810142640 |
| 专利类型 | 发明 |
| 权利人 | 深圳先进技术研究院 |
| 公开日期 | 2011-08-17 |
| 授权日期 | 2011-08-17 |
| 源URL | [http://ir.siat.ac.cn:8080/handle/172644/155]  |
| 专题 | 深圳先进技术研究院_先进院专利 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 黄波,刘思源,郑倩,等. 一种预投影光线投射体绘制的并行处理方法. CN200810142640. 2008-07-21. |
入库方式： OAI收割
来源：深圳先进技术研究院
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