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InAs homoepitaxy and InAs/AlSb/GaSb resonant interband tunneling diodes on InAs substrate

文献类型:期刊论文

作者Wei Xiang ; Guowei Wang ; Hongyue Hao ; Yongping Liao ; Xi Han ; Lichun Zhang ; Yingqiang Xu ; Zhengwei Ren ; Haiqiao Ni ; Zhenhong He ; Zhichuan Niu
刊名journal of crystal growth
出版日期2016
卷号443页码:85-89
学科主题半导体物理
收录类别SCI
公开日期2017-03-16
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/27999]  
专题半导体研究所_半导体超晶格国家重点实验室
推荐引用方式
GB/T 7714
Wei Xiang,Guowei Wang,Hongyue Hao,et al. InAs homoepitaxy and InAs/AlSb/GaSb resonant interband tunneling diodes on InAs substrate[J]. journal of crystal growth,2016,443:85-89.
APA Wei Xiang.,Guowei Wang.,Hongyue Hao.,Yongping Liao.,Xi Han.,...&Zhichuan Niu.(2016).InAs homoepitaxy and InAs/AlSb/GaSb resonant interband tunneling diodes on InAs substrate.journal of crystal growth,443,85-89.
MLA Wei Xiang,et al."InAs homoepitaxy and InAs/AlSb/GaSb resonant interband tunneling diodes on InAs substrate".journal of crystal growth 443(2016):85-89.

入库方式: OAI收割

来源:半导体研究所

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