掺铒高硅氧玻璃光谱性质的研究
文献类型:期刊论文
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作者 | 达宁 ; 杨旅云 ; 彭明营 ; 孟宪庚 ; 周秦岭 ; 陈丹平 ; 赤井智子 ; 角野广平 |
刊名 | 物理学报
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出版日期 | 2006 |
卷号 | 55期号:6页码:2771 |
关键词 | 掺铒高硅氧玻璃 Er3+ doped high silica glass Judd-Ofelt理论 Judd-Oflet theory 量子效率 quantum efficiency |
ISSN号 | 1000-3290 |
其他题名 | Specltal properties of Er3+ doped high silica glass |
中文摘要 | 应用Judd-Oflet理论计算了新型掺铒高硅氧玻璃中铒离子的强度参量Ωt(t=2,4,6),Ω2=8.15×10^-20,Ω4=1.43×10^-20,Ω6=1.22×10^-20,相比于其他氧化物玻璃,表现出较大的Ω2,6值,反映了铒离子周围的近邻结构不对称性和Er-O键的离子键成分较高.利用McCumber理论计算得到了能级4I13/2→4I15/2跃迁的受激发射截面为σc=O.51pm^2.这种高硅氧玻璃掺铒离子浓度尽管高于石英光纤的掺杂浓度10倍左右,其荧光寿命和量子效率仍达到6.0ms和66.; The Judd-Ofelt intensity parameter Omega(t) of a novel Er3+ doped high silica glass was calculated. The large values Of Omega(2.6) ( Omega(2) 8.15 x 10(-20), Omega(6) = 1.22 x 10(-20)) indicate that the local structure of Er3+ has higher asymmetry and lower covalency than other oxide glasses. McCumber theory was used to calculate the stimulated emission cross section of I-4(13/2) -> I-4(15/2) transition, the result was 0.51 pm(2). Despite the Er3+ -doped concentration in high silica glass being about ten times greater than that in silica fiber, its fluorescence lifetime and quantum efficiency were 6.0ms and 66.0%, respectively. This novel Er3+ -doped glass can be used in optical amplification and microchip laser. |
学科主题 | 光学材料;光学玻璃 |
分类号 | TN722;TQ175.712 |
收录类别 | ei |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2009-09-24 |
源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4825] ![]() |
专题 | 上海光学精密机械研究所_高功率激光单元技术研发中心 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 达宁,杨旅云,彭明营,等. 掺铒高硅氧玻璃光谱性质的研究, Specltal properties of Er3+ doped high silica glass[J]. 物理学报,2006,55(6):2771, 2776. |
APA | 达宁.,杨旅云.,彭明营.,孟宪庚.,周秦岭.,...&角野广平.(2006).掺铒高硅氧玻璃光谱性质的研究.物理学报,55(6),2771. |
MLA | 达宁,et al."掺铒高硅氧玻璃光谱性质的研究".物理学报 55.6(2006):2771. |
入库方式: OAI收割
来源:上海光学精密机械研究所
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