硅片表面球形粒子散射研究
文献类型：期刊论文
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| 作者 | 曹楷 ; 程兆谷 ; 高海军 |
| 刊名 | 光子学报
 |
| 出版日期 | 2006 |
| 卷号 | 35期号:4页码:517 |
| 关键词 | 硅片 散射 米氏理论 杨氏模型 微分散射截面 |
| ISSN号 | 1004-4213 |
| 其他题名 | Calculation of light scattering from a spherical particle on a silicon wafer |
| 中文摘要 | 为求解硅片表面微小粒子在任意线偏振平面入射光照射下的散射光光强分布，选择了基于Mie散射的杨氏模型为依据，推导了该模型下散射光强空间分布的计算方法，并给出了0．54／μm球形粒子在垂直、倾斜入射下光强空间分布的模拟计算结果，以及入射平面第一象限内散射光强与国外已发表实验结果的比较． |
| 分类号 | TN247 |
| 收录类别 | EI |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2009-09-24 ; 2010-10-12 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/6241]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_精密光电测控研究与发展中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 曹楷,程兆谷,高海军. 硅片表面球形粒子散射研究, Calculation of light scattering from a spherical particle on a silicon wafer[J]. 光子学报,2006,35(4):517, 520. |
| APA | 曹楷,程兆谷,&高海军.(2006).硅片表面球形粒子散射研究.光子学报,35(4),517. |
| MLA | 曹楷,et al."硅片表面球形粒子散射研究".光子学报 35.4(2006):517. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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