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硅片表面球形粒子散射及微分散射截面的研究

文献类型:期刊论文

作者崔品静 ; 程兆谷
刊名激光技术
出版日期2006
卷号30期号:6页码:561
关键词散射 光强空间分布 米氏理论 相差模型 微分散射截面
ISSN号1001-3806
中文摘要为了研究硅片表面球彤粒子的光散射情况,根据Mie氏理论,采用相差模型,得到了球形粒子在任意线偏振光照射下的散射光光强空间分布的计算方法,给出了球形粒子在s偏振和p偏振光分别以0°和70°角照射下散射光微分散射截面的模拟计算结果,并与相关的实验结果进行了比较,对硅片缺陷自动检测仪的研制具有指导意义。
分类号O436.2
收录类别0
语种中文
公开日期2009-09-24 ; 2010-10-12
源URL[http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/6247]  
专题上海光学精密机械研究所_精密光电测控研究与发展中心
推荐引用方式
GB/T 7714
崔品静,程兆谷. 硅片表面球形粒子散射及微分散射截面的研究[J]. 激光技术,2006,30(6):561, 563.
APA 崔品静,&程兆谷.(2006).硅片表面球形粒子散射及微分散射截面的研究.激光技术,30(6),561.
MLA 崔品静,et al."硅片表面球形粒子散射及微分散射截面的研究".激光技术 30.6(2006):561.

入库方式: OAI收割

来源:上海光学精密机械研究所

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