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C面蓝宝石上单一取向γ-LiAlO2层的生长研究

文献类型:期刊论文

作者李抒智 ; 杨卫桥 ; 周圣明 ; 徐军
刊名中国科学E
出版日期2005
卷号35期号:3页码:249
关键词蓝宝石 γ-LiAlO2 生长工艺 气相传输平衡技术 半导体材料 氮化物 晶体
ISSN号1006-9275
中文摘要用气相传输平衡技术(VTE)在(0001)蓝宝石衬底上制备了单相的γ-LiAlO2薄层,X射线衍射表明,在适当的温度(1050~1100℃)条件下,此γ-LiAlO2薄层为高度[100]取向,并通过扫描电子显微镜和透射光谱,分析了影响薄膜质量的因素,这一实验结果意味着有望通过VTE技术制备用于GaN基器件外延生长γ-LiAlO2(100)//Al2O3(0001)复合衬底。
学科主题光学材料;晶体
分类号TN3;O782
收录类别0
语种中文
公开日期2009-09-24
源URL[http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/5409]  
专题上海光学精密机械研究所_激光与光电子功能材料研发中心
推荐引用方式
GB/T 7714
李抒智,杨卫桥,周圣明,等. C面蓝宝石上单一取向γ-LiAlO2层的生长研究[J]. 中国科学E,2005,35(3):249, 253.
APA 李抒智,杨卫桥,周圣明,&徐军.(2005).C面蓝宝石上单一取向γ-LiAlO2层的生长研究.中国科学E,35(3),249.
MLA 李抒智,et al."C面蓝宝石上单一取向γ-LiAlO2层的生长研究".中国科学E 35.3(2005):249.

入库方式: OAI收割

来源:上海光学精密机械研究所

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