C面蓝宝石上单一取向γ-LiAlO2层的生长研究
文献类型:期刊论文
作者 | 李抒智 ; 杨卫桥 ; 周圣明 ; 徐军 |
刊名 | 中国科学E
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出版日期 | 2005 |
卷号 | 35期号:3页码:249 |
关键词 | 蓝宝石 γ-LiAlO2 生长工艺 气相传输平衡技术 半导体材料 氮化物 晶体 |
ISSN号 | 1006-9275 |
中文摘要 | 用气相传输平衡技术(VTE)在(0001)蓝宝石衬底上制备了单相的γ-LiAlO2薄层,X射线衍射表明,在适当的温度(1050~1100℃)条件下,此γ-LiAlO2薄层为高度[100]取向,并通过扫描电子显微镜和透射光谱,分析了影响薄膜质量的因素,这一实验结果意味着有望通过VTE技术制备用于GaN基器件外延生长γ-LiAlO2(100)//Al2O3(0001)复合衬底。 |
学科主题 | 光学材料;晶体 |
分类号 | TN3;O782 |
收录类别 | 0 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2009-09-24 |
源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/5409] ![]() |
专题 | 上海光学精密机械研究所_激光与光电子功能材料研发中心 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 李抒智,杨卫桥,周圣明,等. C面蓝宝石上单一取向γ-LiAlO2层的生长研究[J]. 中国科学E,2005,35(3):249, 253. |
APA | 李抒智,杨卫桥,周圣明,&徐军.(2005).C面蓝宝石上单一取向γ-LiAlO2层的生长研究.中国科学E,35(3),249. |
MLA | 李抒智,et al."C面蓝宝石上单一取向γ-LiAlO2层的生长研究".中国科学E 35.3(2005):249. |
入库方式: OAI收割
来源:上海光学精密机械研究所
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