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退火对Si(111)衬底上ZnO薄膜的结构和发光特性的影响

文献类型:期刊论文

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作者汪洪 ; 苏凤莲 ; 周圣明 ; 宋学平 ; 刘艳美 ; 李爱侠 ; 尹平 ; 孙兆奇
刊名人工晶体学报
出版日期2006
卷号35期号:3页码:660
关键词ZnO薄膜 磁控溅射 X射线衍射 光致发光
ISSN号1000-985X
其他题名Effects of Annealing on the Structure and Photoluminescence of ZnO Thin Films Grown on Silicon Substrate
中文摘要采用磁控溅射法在硅(111)衬底上制备了C轴高度取向的ZnO薄膜,并研究了退火温度和氧气气氛对ZnO薄膜晶体质量、晶粒度大小和光致发光谱的影响。X射线衍射表明,所有薄膜均为高度C轴择优取向,当退火温度低于900℃时,随着退火温度的升高,薄膜的取向性和结晶度都明显提高。室温下对ZnO薄膜进行了光谱分析,退火后的样品均可观测到明显的紫光发射。在一定的退火温度范围内,还可以观测到明显的紫外双峰。空气中退火的样品,当退火温度达到或高于600℃还可观测到绿光发射。实验结果表明,发光峰强度随退火温度和氧气气氛不同而不
学科主题光学材料;晶体
分类号O484
收录类别ei
语种中文
公开日期2009-09-24 ; 2010-10-12
源URL[http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/5907]  
专题上海光学精密机械研究所_激光与光电子功能材料研发中心
推荐引用方式
GB/T 7714
汪洪,苏凤莲,周圣明,等. 退火对Si(111)衬底上ZnO薄膜的结构和发光特性的影响, Effects of Annealing on the Structure and Photoluminescence of ZnO Thin Films Grown on Silicon Substrate[J]. 人工晶体学报,2006,35(3):660, 665.
APA 汪洪.,苏凤莲.,周圣明.,宋学平.,刘艳美.,...&孙兆奇.(2006).退火对Si(111)衬底上ZnO薄膜的结构和发光特性的影响.人工晶体学报,35(3),660.
MLA 汪洪,et al."退火对Si(111)衬底上ZnO薄膜的结构和发光特性的影响".人工晶体学报 35.3(2006):660.

入库方式: OAI收割

来源:上海光学精密机械研究所

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