磁控溅射阴极靶磁场分布的定量评价
文献类型：期刊论文
| 作者 | 高方圆 ; 李光; 夏原
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| 刊名 | 材料热处理学报
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| 出版日期 | 2010 |
| 卷号 | 31期号:12页码:153-157 |
| 通讯作者邮箱 | mormor0516@yahoo.com.cn |
| 关键词 | 磁控溅射 磁场分布 结构参数 平行率 |
| ISSN号 | 1009-6264 |
| 其他题名 | Quantitative evaluation for magnetic field distribution of magnetron sputtering target |
| 通讯作者 | 高方圆 |
| 合作状况 | 国内 |
| 中文摘要 | 针对磁控溅射阴极靶磁场分布难以进行定量评价的问题,提出以磁场水平分量Bx的平行率Rk为量化指标,对磁场分布状态进行评价的新方法;采用有限元方法,模拟分析了磁控溅射阴极靶结构参数对磁场分布的影响规律,并利用Rk对结构参数的合理性进行了验证.结果表明,量化指标Rk可以有效地评价磁场分布的优劣,能够为磁场模拟及分析提供基础的科学判据 |
| 收录类别 | EI ; CSCD |
| 资助信息 | 国家自然科学基金(10772179) |
| 原文出处 | http://acad.cnki.net/Kns55/brief/result.aspx?dbPrefix=CJFQ |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:4086205 |
| 公开日期 | 2009-08-03 ; 2011-04-07 |
| 源URL | [http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/44006]  |
| 专题 | 力学研究所_先进制造工艺力学重点实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 高方圆,李光,夏原. 磁控溅射阴极靶磁场分布的定量评价[J]. 材料热处理学报,2010,31(12):153-157. |
| APA | 高方圆,李光,&夏原.(2010).磁控溅射阴极靶磁场分布的定量评价.材料热处理学报,31(12),153-157. |
| MLA | 高方圆,et al."磁控溅射阴极靶磁场分布的定量评价".材料热处理学报 31.12(2010):153-157. |
入库方式： OAI收割
来源：力学研究所
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