等离子体电解氧化陶瓷层生长动力学机制及力学特性
文献类型:会议论文
作者 | 段红平![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() |
出版日期 | 2010-10-15 |
会议名称 | 2010’力学与工程应用学术研讨会论文集 |
会议地点 | 中国上海 |
通讯作者邮箱 | xia@imech.ac.cn |
关键词 | 等离子体电解氧化 生长机制 陶瓷层 孔隙率 力学特性 |
页码 | 59-73 |
通讯作者 | 夏原 |
中文摘要 | 等离子体电解氧化(PEO)作为近年发展的"绿色"表面加工新方法,可有效提升轻金属材料的表面性能,在全铝发动机及纺织零部件等表面陶瓷化方面具有重要的实用价值。PEO过程为典型多效应耦合的极端非平衡过程,等离子体放电及涂层生长机理异常复杂,故存在多种诠释陶瓷层生长机制的理论模型;本文系统讨论了电子雪崩效应导致击穿放电的三个重要模型,即Ikonopisov模型,连续雪崩模型和杂质中心放电模型。由于火花放电及高温烧结作用,PEO过程中存在氧化膜的击穿、熔化、凝固及相变等反应,并最终形成具有微孔结构的陶瓷性涂层。陶瓷层中微孔密度及孔隙特征与其服役性能紧密相关,因此文中阐述了PEO陶瓷层孔隙率的测定方法,并总结了PEO涂层的抗疲劳特性及其摩擦磨损行为。此外,提出了等离子体电解氧化的研究重点与发展方向,展望了该新方法的应用领域与广阔前景。 |
会议网址 | http://acad.cnki.net/Kns55/brief/result.aspx?dbPrefix=CPFD |
会议录 | 2010’力学与工程应用学术研讨会论文集.中国上海.2010-10-15,p.59-73
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语种 | 中文 |
源URL | [http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/44279] ![]() |
专题 | 力学研究所_先进制造工艺力学重点实验室 |
通讯作者 | 夏原 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 段红平,段红平,段红平,等. 等离子体电解氧化陶瓷层生长动力学机制及力学特性[C]. 见:2010’力学与工程应用学术研讨会论文集. 中国上海.http://acad.cnki.net/Kns55/brief/result.aspx?dbPrefix=CPFD. |
入库方式: OAI收割
来源:力学研究所
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