等离子体活性烧结纳米碳化硅涂层的实验研究
文献类型：会议论文
| 作者 | 黄河激 ; 付志强; 潘文霞; 吴承康
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| 出版日期 | 2011-01-12 |
| 会议名称 | 第三届高超声速科技学术会议 |
| 会议日期 | 2010-10-26~2010-10-28 |
| 会议地点 | 无锡 |
| 通讯作者邮箱 | huang@imech.ac.cn |
| 关键词 | 减压等离子体活性烧结，碳化硅涂层，高速沉积 |
| 通讯作者 | 黄河激 |
| 中文摘要 | 利用减压等离子体活性烧结制备了碳化硅涂层。研究了不同等离子体气流流量、真空室压力、电源功率、基板距离等工艺参数组合对涂层质量的影响规律。通过正交实验确定了优化工艺参数组合，在Φ50 mm以及50×50 mm的较大石墨基板上获得了厚度和成分均匀，结合良好的SiC涂层。沉积速率高达20 μm/min。利用小型电弧等离子体风洞对制备的涂层进行了烧蚀实验，结果表明所制备的涂层在有氧高温高速气流环境下无剥落，可有效保护基体石墨。 |
| 收录类别 | 其他 |
| 合作状况 | 国内 |
| 会议录 | 第三届高超声速科技学术会议.无锡.2010-10-26~2010-10-28.
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| 学科主题 | 电磁流体力学和等离子体动力学 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/43296]  |
| 专题 | 力学研究所_等离子体与燃烧中心(2009-2011) |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 黄河激,付志强,潘文霞,等. 等离子体活性烧结纳米碳化硅涂层的实验研究[C]. 见:第三届高超声速科技学术会议. 无锡. 2010-10-26~2010-10-28. |
入库方式： OAI收割
来源：力学研究所
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