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β-Ga2O3 单晶NH3中氮化的研究

文献类型:期刊论文

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作者李星 ; 夏长泰 ; 何肖丽 ; 裴广庆 ; 张俊刚 ; 徐军
刊名Chin. Opt. Lett.
出版日期2008
卷号6期号:4页码:282
关键词材料处理 Nitridation temperature 表面 光电子学 拉曼散射 光致发光
ISSN号1671-7694
其他题名Study on nitridation processes of \beta-Ga2O3 single crystal
中文摘要为了将β-Ga2O3单晶应用于作为外延生长优质GaN薄膜的衬底材料,本文对β-Ga2O3 (100)进行了氮化处理,并且主要讨论了氮化温度以及β-Ga2O3表面的粗糙程度对GaN形成的影响。我们发现,最理想的氮化温度在900oC。此时,在抛光的β-Ga2O3的表面上生成了一层具有六方结构并且有择优取向的GaN层。本文同时也对氮化的机理进行了讨论。; Nitridated β-Ga2O3 (100) substrate was investigated as the substrate for GaN epitaxial growth. The effects of nitridation temperature and surface roughness of β-Ga2O3 wafers on the formation of GaN were studied. It was found that the most optimized nitridation temperature was 900°C, and hexagonal GaN with preferred orientation was produced on the well-polished wafer. The nitridation mechanism was also discussed.
学科主题光学材料;晶体
收录类别EI
语种英语
公开日期2009-09-24
源URL[http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/6091]  
专题上海光学精密机械研究所_激光与光电子功能材料研发中心
推荐引用方式
GB/T 7714
李星,夏长泰,何肖丽,等. β-Ga2O3 单晶NH3中氮化的研究, Study on nitridation processes of \beta-Ga2O3 single crystal[J]. Chin. Opt. Lett.,2008,6(4):282, 285.
APA 李星,夏长泰,何肖丽,裴广庆,张俊刚,&徐军.(2008).β-Ga2O3 单晶NH3中氮化的研究.Chin. Opt. Lett.,6(4),282.
MLA 李星,et al."β-Ga2O3 单晶NH3中氮化的研究".Chin. Opt. Lett. 6.4(2008):282.

入库方式: OAI收割

来源:上海光学精密机械研究所

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