磁控反应溅射法制备渐变折射率薄膜的模型分析
文献类型：期刊论文
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| 作者 | 沈自才 ; 邵建达 ; 王英剑 ; 范正修 |
| 刊名 | 物理学报
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| 出版日期 | 2005 |
| 卷号 | 54期号:10页码:4842 |
| 关键词 | 渐变折射率 gradient-index 磁控反应溅射 reactive magnetron sputtering 模型 modeling 反应溅射法 薄膜 制备 模型分析 磁控 变化规律 反应气体 |
| ISSN号 | 1000-3290 |
| 其他题名 | Modeling analysis of gradient-index coatings prepared by reactive magnetron sputtering |
| 中文摘要 | 阐述了磁控反应溅射法制备渐变折射率薄膜的机理；探讨了磁控反应溅射法制备渐变折射率薄膜的理论模型，给出了渐变折射率薄膜的折射率与反应气体分压的关系，在一定的沉积参数下，由要得到的膜层折射率随膜层几何厚度的变化规律可推导出反应气体分压比随时间的变化规律；最后以制备折射率线性变化的薄膜为例说明了如何推导得到反应气体分压比随时间的变化规律．; The formation mechanism of gradient-index coatings by reactive magnetron sputtering is discussed. A practical modeling of gradient-index coatings is proposed, the relationship between refractive index of coatings and pressure of reactive gas is established. Next, we discussed the changing rule of partial-pressure of reactive gas with time requived for obtaining a desired refractive index of gradient coatings under specific deposition conditions. A linear coating is taken as example to illustrate how to get the relationship between partial-pressure of reactive gas and time. |
| 学科主题 | 光学薄膜 |
| 分类号 | O484.1;TN818 |
| 收录类别 | ei |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2009-09-22 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4172]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 沈自才,邵建达,王英剑,等. 磁控反应溅射法制备渐变折射率薄膜的模型分析, Modeling analysis of gradient-index coatings prepared by reactive magnetron sputtering[J]. 物理学报,2005,54(10):4842, 4845. |
| APA | 沈自才,邵建达,王英剑,&范正修.(2005).磁控反应溅射法制备渐变折射率薄膜的模型分析.物理学报,54(10),4842. |
| MLA | 沈自才,et al."磁控反应溅射法制备渐变折射率薄膜的模型分析".物理学报 54.10(2005):4842. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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