LBO晶体上1064nm，532nm二倍频增透膜的设计及误差分析
文献类型：期刊论文
| 作者 | 谭天亚 ; 黄建兵 ; 占美琼 ; 邵建达 ; 范正修 |
| 刊名 | 中国激光
 |
| 出版日期 | 2006 |
| 卷号 | 33期号:2页码:242 |
| 关键词 | 薄膜 增透膜 二倍频 矢量合成法 LBO晶体 误差分析 过渡层 |
| ISSN号 | 0258-7025 |
| 其他题名 | Design and error analysis of 1064 nm, 532 nm frequency-doubled antireflection coating for LBO |
| 中文摘要 | 采用矢量合成法设计了LiB3O5（LBO）晶体上1064nm，532nm二倍频增透膜，在1064nm处的反射率为0．0014％，532nm处的反射率为0．0004％。根据误差分析，薄膜制备时沉积速率精度控制在＋6．5％时，1064nm处的反射率增加至0．22％，532nm处增加至0．87％。材料折射率的变化控制在＋3％时，1064nm处的反射率达0．24％，532nm处达0．22％。沉积速率和折射率控制的负变化不增大特定波长处的剩余反射率。与膜层折射率相比，薄膜物理厚度对剩余反射率的影响小。低折射率膜层的 |
| 学科主题 | 光学薄膜 |
| 分类号 | O484 |
| 收录类别 | ei |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2009-09-22 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4204]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 谭天亚,黄建兵,占美琼,等. LBO晶体上1064nm，532nm二倍频增透膜的设计及误差分析[J]. 中国激光,2006,33(2):242, 247. |
| APA | 谭天亚,黄建兵,占美琼,邵建达,&范正修.(2006).LBO晶体上1064nm，532nm二倍频增透膜的设计及误差分析.中国激光,33(2),242. |
| MLA | 谭天亚,et al."LBO晶体上1064nm，532nm二倍频增透膜的设计及误差分析".中国激光 33.2(2006):242. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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