Mo原子溅射能量对Mo／Si薄膜微结构的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 秦俊岭 ; 易葵 ; 邵建达 |
| 刊名 | 功能材料与器件学报
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| 出版日期 | 2006 |
| 卷号 | 12期号:2页码:81 |
| 关键词 | Mo／Si MoSi2 溅射能量 |
| ISSN号 | 1007-4252 |
| 其他题名 | Influence of sputtering energy of Mo atoms on microstructure of Mo/Si thin film |
| 中文摘要 | 用磁控溅射法制备了Mo／Si薄膜，用AFM和XRD分别研究了Mo原子的溅射能量不同时，Mo／Si薄膜表面形貌和晶相的变化。通过比较发现，随着Mo原子溅射能量的增大，Mo／Si薄膜表面粗糙度增加，Mo和Si的特征X射线衍射峰也越来越强，并且Mo膜层和Si膜层之间生成了Mo-Si2。Mo原子的溅射能量是诱导非晶Si结晶和MoSi2生成的主要原因。 |
| 学科主题 | 光学薄膜 |
| 分类号 | O484.4 |
| 收录类别 | ei |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2009-09-22 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4214]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 秦俊岭,易葵,邵建达. Mo原子溅射能量对Mo／Si薄膜微结构的影响[J]. 功能材料与器件学报,2006,12(2):81, 85. |
| APA | 秦俊岭,易葵,&邵建达.(2006).Mo原子溅射能量对Mo／Si薄膜微结构的影响.功能材料与器件学报,12(2),81. |
| MLA | 秦俊岭,et al."Mo原子溅射能量对Mo／Si薄膜微结构的影响".功能材料与器件学报 12.2(2006):81. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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