电子束蒸发制备平板偏振膜激光损伤特性研究
文献类型：期刊论文
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| 作者 | 毕军 ; 黄建兵 ; 占美琼 ; 张伟丽 ; 易葵 |
| 刊名 | 中国激光
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| 出版日期 | 2006 |
| 卷号 | 33期号:6页码:837 |
| 关键词 | 薄膜 平板偏振膜 损伤阈值 电子束蒸发 |
| ISSN号 | 0258-7025 |
| 其他题名 | Laser-induced damage of flat polarizer prepared by electron beam evaporation |
| 中文摘要 | 采用电子束蒸发沉积技术制备了平板偏振膜。用Lambda900分光光度计测试了其光学性能。在中心波长1053nm处P偏振光的透过率Tp〉98％，S偏振光的透过率Ts〈0．5％，消光比T，／瓦〉200：1，带宽约为20nm。用波长1064nm，脉宽12ns的脉冲激光进行损伤阈值测试，获得P偏振光的损伤阈值为17．2J／cm^2，S偏振光的损伤阈值为19．6J／cm^2。用Nomarski显微镜对薄膜的损伤形貌进行观察，并用Alpha-500型台阶仪对损伤深度进行测试。结果表明，P偏振光的激光损伤为界面损伤与缺 |
| 学科主题 | 光学薄膜 |
| 分类号 | TN244;O484.4 |
| 收录类别 | ei |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2009-09-22 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4298]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 毕军,黄建兵,占美琼,等. 电子束蒸发制备平板偏振膜激光损伤特性研究, Laser-induced damage of flat polarizer prepared by electron beam evaporation[J]. 中国激光,2006,33(6):837, 841. |
| APA | 毕军,黄建兵,占美琼,张伟丽,&易葵.(2006).电子束蒸发制备平板偏振膜激光损伤特性研究.中国激光,33(6),837. |
| MLA | 毕军,et al."电子束蒸发制备平板偏振膜激光损伤特性研究".中国激光 33.6(2006):837. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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