高光洁度玻璃基片的表面散射和体散射测量
文献类型：期刊论文
| 作者 | 侯海虹 ; 洪瑞金 ; 范正修 ; 易葵 ; 邵建达 |
| 刊名 | 强激光与粒子束
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| 出版日期 | 2006 |
| 卷号 | 18期号:4页码:609 |
| 关键词 | 表面散射 体散射 总积分散射 玻璃基片 表面粗糙度 |
| ISSN号 | 1001-4322 |
| 其他题名 | Measurement of surface and volume scattering of glass substrates with high finish |
| 中文摘要 | 提出了一种利用总积分散射（TIS）测量K9玻璃基片表面散射和体散射的实验方法。首先采用磁控溅射技术在基片表面沉积厚度为几十nm的金属Ag薄膜，然后将基片的表面和体区分开考虑，通过TIS测得了基片上下表面的均方根粗糙度。进而求得基片的总散射和表面散射．最后计算得到了体散射。分别利用TIS和原子力显微镜（AFM）测量了3个样品上表面所镀Ag膜的均方根粗糙度．两种方法所得的均方根粗糙度的数值相差不明显，差值分别为0．08，0．11和0．09nm，表明TIS和AFM的测量结果相一致。利用该方法测得3块K9玻璃基片 |
| 学科主题 | 光学薄膜 |
| 分类号 | TH742 |
| 收录类别 | ei |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2009-09-22 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4312]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 侯海虹,洪瑞金,范正修,等. 高光洁度玻璃基片的表面散射和体散射测量[J]. 强激光与粒子束,2006,18(4):609, 611. |
| APA | 侯海虹,洪瑞金,范正修,易葵,&邵建达.(2006).高光洁度玻璃基片的表面散射和体散射测量.强激光与粒子束,18(4),609. |
| MLA | 侯海虹,et al."高光洁度玻璃基片的表面散射和体散射测量".强激光与粒子束 18.4(2006):609. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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