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脉宽压缩光栅用多层膜制备和性能测试

文献类型:期刊论文

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作者孔伟金 ; 沈健 ; 沈自才 ; 邵建达 ; 范正修
刊名光子学报
出版日期2006
卷号35期号:1页码:84
关键词多层电介质光栅 膜系设 性能分析
ISSN号1004-4213
其他题名Multi-layer dielectric film for pulse compressed gratings
中文摘要给出了以413nm作为写入波长,1053nm作为使用波长的多层介质光栅膜的设计,计算表明膜系H3L(H2L)·9H0.5L2.03H满足光栅膜的要求.最后给出了制备得到的样品光学特性测试,结果表明在使用渡长和曝光波长处满足设计要求,其抗激光损伤阈值在光正入射和51.2°入射时分别为14.14J/cm^2和9.32J/cm^2,膜系的应力表现为压应力.
学科主题光学薄膜
分类号O484
收录类别ei
语种中文
公开日期2009-09-22
源URL[http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4324]  
专题上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心
推荐引用方式
GB/T 7714
孔伟金,沈健,沈自才,等. 脉宽压缩光栅用多层膜制备和性能测试, Multi-layer dielectric film for pulse compressed gratings[J]. 光子学报,2006,35(1):84, 88.
APA 孔伟金,沈健,沈自才,邵建达,&范正修.(2006).脉宽压缩光栅用多层膜制备和性能测试.光子学报,35(1),84.
MLA 孔伟金,et al."脉宽压缩光栅用多层膜制备和性能测试".光子学报 35.1(2006):84.

入库方式: OAI收割

来源:上海光学精密机械研究所

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