在短脉冲激光作用下薄膜的损伤机制
文献类型：期刊论文
| 作者 | 夏志林 ; 邵建达 ; 范正修 |
| 刊名 | 材料研究学报
 |
| 出版日期 | 2006 |
| 卷号 | 20期号:6页码:581 |
| 关键词 | 材料科学基础学科 薄膜 激光诱导损伤 联合损伤机制 损伤闭值 |
| ISSN号 | 1005-3093 |
| 中文摘要 | 计算了不同材料的能带带隙、初始电子密度、激光波长和激光脉宽等参效对薄膜的抗激光损伤闭值的影响，研究了在不同脉冲宽度激光作用下多光子离化和雪崩离化两种损伤机制的竞争．结果表明，在以平均电子能量不变为特征的雪崩电离的建立期间，光电离速度影响初始电子的浓度，从而影响雪崩电离和光电离之间的竞争．激光脉冲的宽度越大，雪崩电离对电子发展的贡献越大，而多光子离化的贡献越小． |
| 学科主题 | 光学薄膜 |
| 分类号 | O484 |
| 收录类别 | ei |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2009-09-22 ; 2010-10-12 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4378]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 夏志林,邵建达,范正修. 在短脉冲激光作用下薄膜的损伤机制[J]. 材料研究学报,2006,20(6):581, 586. |
| APA | 夏志林,邵建达,&范正修.(2006).在短脉冲激光作用下薄膜的损伤机制.材料研究学报,20(6),581. |
| MLA | 夏志林,et al."在短脉冲激光作用下薄膜的损伤机制".材料研究学报 20.6(2006):581. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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