离子辅助沉积中离子束流密度的作用
文献类型：期刊论文
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| 作者 | 张大伟 ; 洪瑞金 ; 范树海 ; 王英剑 ; 邵建达 ; 范正修 |
| 刊名 | 光子学报
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| 出版日期 | 2005 |
| 卷号 | 34期号:3页码:477 |
| 关键词 | 离子辅助 Ion beam assisted 离子束流密度 Ion current density 热尖峰 Thermal-spike 晶相 Crystal phase |
| ISSN号 | 1004-4213 |
| 其他题名 | The Effect of ion Current Density in ion Beam Assisted Deposition |
| 中文摘要 | 测量了End-Hall离子源在不同条件下的离子束流密度，在不同离子束流密度下进行了心离子辅助沉积ZrO2薄膜的实验，研究了离子束流密度对薄膜折射率、晶相的影响．根据动量传递模型分析了离子束流密度对薄膜折射率的作用；根据热尖峰理论证明了一定条件下离子束流密度不会影响薄膜晶体结构。; The ion current density (ICD) of End-Hall ion source at different conditions were determined with a Frady cup. The ZrO_2 films were deposited with different Ar+ ICD. The influence of ICD on refractive index, crystal phases, index inhomogeneity of films was studied. The effect of ICD on refractive index was analysed by a momentum transfer model. According to a thermal-spike theory, it is evidenced that the ICD didn′t influence the crystal structure of the films. |
| 学科主题 | 光学薄膜 |
| 分类号 | TB43 |
| 收录类别 | ei |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2009-09-22 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4400]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张大伟,洪瑞金,范树海,等. 离子辅助沉积中离子束流密度的作用, The Effect of ion Current Density in ion Beam Assisted Deposition[J]. 光子学报,2005,34(3):477, 480. |
| APA | 张大伟,洪瑞金,范树海,王英剑,邵建达,&范正修.(2005).离子辅助沉积中离子束流密度的作用.光子学报,34(3),477. |
| MLA | 张大伟,et al."离子辅助沉积中离子束流密度的作用".光子学报 34.3(2005):477. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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