ZrO2／SiO2棱镜偏振膜的膜系优化设计与制备
文献类型：期刊论文
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| 作者 | 沈自才 ; 孔伟金 ; 宋永香 ; 汤兆胜 ; 范正修 |
| 刊名 | 激光技术
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| 出版日期 | 2005 |
| 卷号 | 29期号:1页码:101 |
| 关键词 | 棱镜 偏振膜 优化 带宽 |
| ISSN号 | 1001-3806 |
| 其他题名 | The optimum design and preparation of ZrO2/SiO2 polarizing film |
| 中文摘要 | 对以K9玻璃为基底，采用ZrO2和SiO2为高低膜料来制备棱镜偏振膜，并进行膜系优化设计。设计指标为：波长540nm处满足Tp>99％，Ts<1％。优化结果表明，膜系以H3L(HL)^13 H3LH为最佳膜系。测试结果表明，此膜系完全满足设计指标，偏振性能优良。探讨了参考波长对偏振膜工作带宽的影响。 |
| 学科主题 | 光学薄膜 |
| 分类号 | O484.4 |
| 收录类别 | 0 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2009-09-22 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4416]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 沈自才,孔伟金,宋永香,等. ZrO2／SiO2棱镜偏振膜的膜系优化设计与制备, The optimum design and preparation of ZrO2/SiO2 polarizing film[J]. 激光技术,2005,29(1):101, 103. |
| APA | 沈自才,孔伟金,宋永香,汤兆胜,&范正修.(2005).ZrO2／SiO2棱镜偏振膜的膜系优化设计与制备.激光技术,29(1),101. |
| MLA | 沈自才,et al."ZrO2／SiO2棱镜偏振膜的膜系优化设计与制备".激光技术 29.1(2005):101. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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