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铬过渡层对银膜光学性质及附着力的影响

文献类型:期刊论文

作者孙喜莲 ; 邵建达
刊名中国激光
出版日期2006
卷号33期号:12页码:1680
关键词薄膜 银膜 微结构 光学性质 附着力
ISSN号0258-7025
中文摘要研究了在玻璃基底上采用不同厚度的铬膜作过渡层,对银膜的光学性质及其附着力的影响。光谱测量结果表明,随着铬膜层厚度的增加,银膜的反射率先增大后减小。与直接镀在玻璃基底上的银膜的反射率相比,铬膜层厚度为8~14nm时,银膜的反射率较低;铬膜层厚度为17~21nm时,银膜的反射率得到提高,其中铬膜厚度为17nm时,银膜的反射率最高;继续增加铬膜层的厚度,银膜的反射率又降低,说明采用一定厚度的铬膜作过渡层可以提高银膜的反射率。X射线衍射(XRD)结构分析表明,一定厚度的铬膜改善了银膜的结晶程度,使薄膜的晶粒度增大
学科主题光学薄膜
分类号O484.4
收录类别ei
语种中文
公开日期2009-09-22
源URL[http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4462]  
专题上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心
推荐引用方式
GB/T 7714
孙喜莲,邵建达. 铬过渡层对银膜光学性质及附着力的影响[J]. 中国激光,2006,33(12):1680, 1683.
APA 孙喜莲,&邵建达.(2006).铬过渡层对银膜光学性质及附着力的影响.中国激光,33(12),1680.
MLA 孙喜莲,et al."铬过渡层对银膜光学性质及附着力的影响".中国激光 33.12(2006):1680.

入库方式: OAI收割

来源:上海光学精密机械研究所

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