铬过渡层对银膜光学性质及附着力的影响
文献类型:期刊论文
作者 | 孙喜莲 ; 邵建达 |
刊名 | 中国激光
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出版日期 | 2006 |
卷号 | 33期号:12页码:1680 |
关键词 | 薄膜 银膜 微结构 光学性质 附着力 |
ISSN号 | 0258-7025 |
中文摘要 | 研究了在玻璃基底上采用不同厚度的铬膜作过渡层,对银膜的光学性质及其附着力的影响。光谱测量结果表明,随着铬膜层厚度的增加,银膜的反射率先增大后减小。与直接镀在玻璃基底上的银膜的反射率相比,铬膜层厚度为8~14nm时,银膜的反射率较低;铬膜层厚度为17~21nm时,银膜的反射率得到提高,其中铬膜厚度为17nm时,银膜的反射率最高;继续增加铬膜层的厚度,银膜的反射率又降低,说明采用一定厚度的铬膜作过渡层可以提高银膜的反射率。X射线衍射(XRD)结构分析表明,一定厚度的铬膜改善了银膜的结晶程度,使薄膜的晶粒度增大 |
学科主题 | 光学薄膜 |
分类号 | O484.4 |
收录类别 | ei |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2009-09-22 |
源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4462] ![]() |
专题 | 上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 孙喜莲,邵建达. 铬过渡层对银膜光学性质及附着力的影响[J]. 中国激光,2006,33(12):1680, 1683. |
APA | 孙喜莲,&邵建达.(2006).铬过渡层对银膜光学性质及附着力的影响.中国激光,33(12),1680. |
MLA | 孙喜莲,et al."铬过渡层对银膜光学性质及附着力的影响".中国激光 33.12(2006):1680. |
入库方式: OAI收割
来源:上海光学精密机械研究所
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