不同膜层数的Mo/Si多层膜的表界面粗糙度和软X射线反射率
文献类型：期刊论文
| 作者 | 秦俊岭 ; 邵建达 ; 易葵 ; 范正修 |
| 刊名 | Chin. Opt. Lett.
 |
| 出版日期 | 2007 |
| 卷号 | 5期号:5页码:301 |
| 关键词 | Mo/Si多层膜 软X射线反射率 表面粗糙度 界面粗糙度 膜层数 Atomic force microscopy Magnetron sputtering Reflection Surface roughness Synchrotron radiation X ray diffraction analysis |
| ISSN号 | 1671-7694 |
| 其他题名 | Interface roughness, surface roughness and soft X-ray reflectivity of Mo/Si multilayers with different layer number |
| 中文摘要 | 用磁控溅射法制备了顶层分别是Mo膜层和Si膜层的两个系列的Mo/Si多层膜，它们的周期厚度相同但是膜层数各不相同。Mo/Si多层膜的周期厚度和界面粗糙度由小角X射线衍射（SAXRD）曲线拟和得到。用原子力显微镜测量了Mo/Si多层膜的表面粗糙度。在国家同步辐射实验室测量了Mo/Si多层膜的软X射线反射率。通过理论和试验研究，发现Mo/Si多层膜的软X射线反射率主要由周期数和界面粗糙度决定，表面粗糙度对Mo/Si多层膜的软X射线反射率影响较小。; A series of Mo/Si multilayers with the same periodic length and different periodic number were prepared by magnetron sputtering, whose top layers were respectively Mo layer and Si layer. Periodic length and interface roughness of Mo/Si multilayers were determined by small angle X-ray diffraction (SAXRD). Surface roughness change curve of Mo/Si multilayer with increasing layer number was studied by atomic force microscope (AFM). Soft X-ray reflectivity of Mo/Si multilayers was measured in National Synchrotron Radiation Laboratory (NSRL). Theoretical and experimental results show that the soft X-ray reflectivity of Mo/Si multilayer is mainly determined by periodic number and interface roughness, surface roughness has little effect on reflectivity. |
| 学科主题 | 光学薄膜 |
| 收录类别 | ei |
| 语种 | 英语 |
| 公开日期 | 2009-09-22 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4494]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 秦俊岭,邵建达,易葵,等. 不同膜层数的Mo/Si多层膜的表界面粗糙度和软X射线反射率[J]. Chin. Opt. Lett.,2007,5(5):301, 303. |
| APA | 秦俊岭,邵建达,易葵,&范正修.(2007).不同膜层数的Mo/Si多层膜的表界面粗糙度和软X射线反射率.Chin. Opt. Lett.,5(5),301. |
| MLA | 秦俊岭,et al."不同膜层数的Mo/Si多层膜的表界面粗糙度和软X射线反射率".Chin. Opt. Lett. 5.5(2007):301. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。