用于掺钛蓝宝石激光系统的高反膜的激光损伤
文献类型：期刊论文
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| 作者 | 姚建可 ; 曾维强 ; 范正修 ; 贺洪波 ; 邵建达 |
| 刊名 | Chin. Opt. Lett.
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| 出版日期 | 2007 |
| 卷号 | 5期号:12页码:724 |
| 关键词 | 电子束蒸发 Bandwidth TiO2/HfO2/SiO2高反膜 Electron beams 带宽 Evaporation 激光损伤阈值 Refractive index 掺钛蓝宝石激光系统 Solid state lasers |
| ISSN号 | 1671-7694 |
| 其他题名 | Laser-induced damage of high reflectors for Ti:sapphire laser system |
| 中文摘要 | 用电子束蒸发制备了用于掺钛蓝宝石啁啾脉冲放大激光系统的TiO2/HfO2/SiO2高反膜，其带宽约为176nm（R>98%, λ0=800nm），激光损伤阈值（LIDT）为2.4 J/cm2。通过TiO2和HfO2单层膜的透过光谱计算了这两种材料的折射率和消光系数。高反膜的性能主要由高折射率材料决定：折射率越高，反射带越宽；消光系数越小，薄膜吸收越小，LIDT越高。最后，讨论了高反膜的激光损伤机制。; A broadband (~176 nm, R>98%, 'lambda'0=800 nm) and high laser-induced damage threshold (LIDT=2.4J/cm2) TiO2/HfO2/SiO2 high reflector (HR) for Ti:sapphire chirped-pulse amplification (CPA) laser system is fabricated by the electron beam evaporation. The refractive index and extinction coefficient of TiO2 and HfO2 films are calculated from single-layer films' transmittance spectra. The properties of HR are mainly determined by the high refractive index material. The high refractive index leads to wide bandwidth. A low extinction coefficient indicates low absorption and high LIDT. The possible damage mechanism of HR is discussed. |
| 学科主题 | 光学薄膜 |
| 收录类别 | EI |
| 语种 | 英语 |
| 公开日期 | 2009-09-22 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4504]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 姚建可,曾维强,范正修,等. 用于掺钛蓝宝石激光系统的高反膜的激光损伤, Laser-induced damage of high reflectors for Ti:sapphire laser system[J]. Chin. Opt. Lett.,2007,5(12):724, 726. |
| APA | 姚建可,曾维强,范正修,贺洪波,&邵建达.(2007).用于掺钛蓝宝石激光系统的高反膜的激光损伤.Chin. Opt. Lett.,5(12),724. |
| MLA | 姚建可,et al."用于掺钛蓝宝石激光系统的高反膜的激光损伤".Chin. Opt. Lett. 5.12(2007):724. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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