Ta2O5膜在532, 800 和 1064 nm波长的n-on-1体系下的激光损伤阈值研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 许程 ; 姚建可 ; 麻健勇 ; 晋云霞 ; 邵建达 |
| 刊名 | Chin. Opt. Lett.
 |
| 出版日期 | 2007 |
| 卷号 | 5期号:12页码:727 |
| 关键词 | Ta2O5膜 激光损伤阈值 吸收 退火 Annealing Electron beams Evaporation Laser damage Optical properties Tantalum compounds |
| ISSN号 | 1671-7694 |
| 其他题名 | Laser-induced damage threshold in n-on-1 regime of Ta2O5 films at 532, 800, and 1064 nm |
| 中文摘要 | Ta2O5膜采用传统的电子束蒸发方法制备，并在氧气中673 K的条件下进行了退火12 h处理。首先在1-on-1体系下对Ta2O5膜进行了532和1064 nm波长下的激光损伤阈值（LIDT） 研究，然后在n-on-1体系下分别对532，800和1064 nm三种波长下的激光损伤阈值进行了研究。结果表明在n-on-1体系下Ta2O5膜在532和1064 nm波长下的阈值均高于1-on-1体系下的阈值。此外，在n-on-1体系下，薄膜的阈值随波长增加而增大。同时发现，在氧气中进行退火对Ta2O5膜的光学性能; Ta2O5 films were prepared with conventional electron beam evaporation and annealed in O2 at 673 K for 12 h. Laser-induced damage thresholds (LIDTs) of the films were performed at 532 and 1064 nm in 1-on-1 regime firstly, and then were performed at 532, 800, and 1064 nm in n-on-1 regime, respectively. The results showed that the LIDTs in n-on-1 regime were higher than that in 1-on-1 regime at 532 and 1064 nm. In addition, in n-on-1 regime, the LIDT increased with the increase of wavelength. Furthermore, both the optical property and LIDT of Ta2O5 films were influenced by annealing in O2. |
| 学科主题 | 光学薄膜 |
| 收录类别 | EI |
| 语种 | 英语 |
| 公开日期 | 2009-09-22 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4506]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 许程,姚建可,麻健勇,等. Ta2O5膜在532, 800 和 1064 nm波长的n-on-1体系下的激光损伤阈值研究[J]. Chin. Opt. Lett.,2007,5(12):727, 729. |
| APA | 许程,姚建可,麻健勇,晋云霞,&邵建达.(2007).Ta2O5膜在532, 800 和 1064 nm波长的n-on-1体系下的激光损伤阈值研究.Chin. Opt. Lett.,5(12),727. |
| MLA | 许程,et al."Ta2O5膜在532, 800 和 1064 nm波长的n-on-1体系下的激光损伤阈值研究".Chin. Opt. Lett. 5.12(2007):727. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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