研究扩散屏障层对Mo/Si多层膜软X射线反射率影响的模拟
文献类型：期刊论文
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| 作者 | 秦俊岭 ; 邵建达 ; 易葵 ; 范正修 |
| 刊名 | 光子学报
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| 出版日期 | 2007 |
| 卷号 | 36期号:2页码:300 |
| 关键词 | 软X射线 多层膜 扩散屏障层 Mo/Si 反射率 模拟 |
| ISSN号 | 1004-4213 |
| 其他题名 | A simulation study of the influence of interdiffusion barrier on soft X-ray reflectivity of Mo/Si multilayers |
| 中文摘要 | 在特定波长下,用四层结构模型模拟了Mo/Si多层膜的软X射线反射率.研究了扩散屏障层dMo-on-Si和dSi-on-Mo对Mo/Si多层膜软X射线反射率的影响.研究发现,扩散屏障层并不总是损害Mo/Si多层膜的光学性能,通过合理设计dMo-on-Si和dSi-on-Mo厚度,增加dMo-on-Si与dSi-on-Mo的比值,也能提高多层膜的软X射线反射率.; abstract {A four-layer model was used to simulate soft X-ray reflectivity of Mo/Si multilayers at a given wavelength. By simulation, the influence of interdiffusion barrier dMo-on-Si and dSi-on-Mo on the soft X-ray reflectivity of Mo/Si multilayers has been detailedly studied. The simulation study shows that interdiffusion barrier is not always disadvantageous to optical capability of Mo/Si multilayers, through designing a right thickness of dMo-on-Si and dSi-on-Mo, increasing the thickness ratio of dMo-on-Si and dSi-on-Mo, it can also improve soft X-ray reflectivity of multilayers.} |
| 学科主题 | 光学薄膜 |
| 分类号 | O484.5 |
| 收录类别 | ei |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2009-09-22 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4570]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 秦俊岭,邵建达,易葵,等. 研究扩散屏障层对Mo/Si多层膜软X射线反射率影响的模拟, A simulation study of the influence of interdiffusion barrier on soft X-ray reflectivity of Mo/Si multilayers[J]. 光子学报,2007,36(2):300, 303. |
| APA | 秦俊岭,邵建达,易葵,&范正修.(2007).研究扩散屏障层对Mo/Si多层膜软X射线反射率影响的模拟.光子学报,36(2),300. |
| MLA | 秦俊岭,et al."研究扩散屏障层对Mo/Si多层膜软X射线反射率影响的模拟".光子学报 36.2(2007):300. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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