8.0nm反射式偏振膜的设计和制备
文献类型:期刊论文
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作者 | 吕超 ; 易葵 ; 邵建达 |
刊名 | 光子学报
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出版日期 | 2007 |
卷号 | 36期号:11页码:2049 |
关键词 | 多层膜 Multilayer 软X射线 Soft X-ray 偏振 Polarization 准布儒斯特角 Bruster angle |
ISSN号 | 1004-4213 |
其他题名 | Designing and Fabrication of Multilayer Polarization for Soft X-ray at 8.0 nm |
中文摘要 | 讨论了软X射线反射式偏振膜的设计原理和方法,利用设计软件模拟设计了8.0nm处的Mo/B4C偏振膜.对影响多层膜性能的参量进行了详细的误差分析.利用磁控溅射镀膜机进行了偏振膜的制备研究,X射线小角衍射测量了多层膜的周期厚度,测量数据的拟合结果与设计值吻合很好.; The design principle and method of multilayer polarizing elements for soft x-ray region was discussed. The Mo/B4C multilayer was designed by 8 nm designing software. Parameter of the multilayer structure was studied and the impact of their misnomer on the multilayer polarizing elements was analyzed.Mo/B4C multilayer was fabricated by magnetron sputtering and proved that it has perfect periodic structure through small angle XRD research. The period of the multilayer is 5.76 nm and it is quite near to our dev... |
学科主题 | 光学薄膜 |
收录类别 | EI |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2009-09-22 |
源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4580] ![]() |
专题 | 上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 吕超,易葵,邵建达. 8.0nm反射式偏振膜的设计和制备, Designing and Fabrication of Multilayer Polarization for Soft X-ray at 8.0 nm[J]. 光子学报,2007,36(11):2049. |
APA | 吕超,易葵,&邵建达.(2007).8.0nm反射式偏振膜的设计和制备.光子学报,36(11),2049. |
MLA | 吕超,et al."8.0nm反射式偏振膜的设计和制备".光子学报 36.11(2007):2049. |
入库方式: OAI收割
来源:上海光学精密机械研究所
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