离子束辅助反应制备的氧化铪薄膜特性
文献类型：期刊论文
| ; | |
| 作者 | 王聪娟 ; 晋云霞 ; 邵建达 ; 范正修 |
| 刊名 | 强激光与粒子束
 |
| 出版日期 | 2007 |
| 卷号 | 19期号:12页码:2087 |
| 关键词 | 薄膜 Thin film 氧化铪 Hafnium oxide 离子束辅助 Ion-assisted deposition 反应沉积 Reactive deposition |
| 其他题名 | Characteristics of hafnium oxide deposited by reactive ion-assisted deposition |
| 中文摘要 | 采用电子束直接蒸发氧化铪、无辅助电子束反应蒸发和离子束辅助反应蒸发金属铪3种沉积方式制备了单层HfO2薄膜,对样品的光学性能、结构特性以及激光损伤特性进行了研究。实验结果表明:通过反应沉积的方法可以有效减少缺陷产生并改善均匀性,施加离子辅助可以提高薄膜的折射率,在一定条件下还可以有效地降低吸收,但激光损伤阈值仍未达到直接采用氧化铪制备的水平;晶体结构方面,离子辅助条件下可以获得单斜相氧化铪薄膜,并且随着轰击能量的提高由(002)面的择优取向向(-111)面转变。; HfO2 films have been deposited by electron beam evaporation of hafnium oxide,reactive evaporation without ion beam assistance and reactive ion beam assisted deposition(RIBAD).Optical and structural properties and laser-induced damage threshold(LIDT) of the films have been studied.It is found that HfO2 film deposited with reactive deposition has less defects and good uniformity.The sample deposited by RIBAD has higher refraction index,and can reduce absorption at a certain condition,but it LIDT is under impr... |
| 学科主题 | 光学薄膜 |
| 收录类别 | ei |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2009-09-22 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4602]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王聪娟,晋云霞,邵建达,等. 离子束辅助反应制备的氧化铪薄膜特性, Characteristics of hafnium oxide deposited by reactive ion-assisted deposition[J]. 强激光与粒子束,2007,19(12):2087. |
| APA | 王聪娟,晋云霞,邵建达,&范正修.(2007).离子束辅助反应制备的氧化铪薄膜特性.强激光与粒子束,19(12),2087. |
| MLA | 王聪娟,et al."离子束辅助反应制备的氧化铪薄膜特性".强激光与粒子束 19.12(2007):2087. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。