短脉冲激光辐照下熔融石英薄膜的损伤机理
文献类型：期刊论文
| 作者 | 黄才华 ; 薛亦渝 ; 夏志林 ; 赵元安 ; 杨芳芳 ; 郭培涛 |
| 刊名 | 武汉理工大学学报：信息与管理工程版
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| 出版日期 | 2008 |
| 卷号 | 30期号:6页码:905 |
| 关键词 | 激光诱导损伤 多光子离化 雪崩离化 初始电子密度 损伤阈值能量 |
| ISSN号 | 1007-144X |
| 其他题名 | Damage M echanism of Fused Silica Optical DielectricFilm Irradiated by Short Pulse Laser |
| 中文摘要 | 激光诱导薄膜损伤过程中，雪崩离化（AI）和多光子离化（MPI）的性质和作用到目前仍然存在争议。基于STUART等人的电子密度演化方程，运用数值模拟方法，研究了脉宽为τ∈[0．01，5]ps范围内单脉冲激光作用下熔融石英薄膜中电子密度演化过程；讨论了初始电子密度、激光脉冲宽度对阈值功率密度和阈值能量的影响；分析了初始电子密度、激光脉冲宽度对多光子离化及雪崩离化的影响。研究结果表明，在所研究的脉宽范围内，对于熔融石英光学薄膜、飞秒激光诱导损伤以雪崩离化为主导，多光子离化的影响随着脉宽的降低而增强，雪崩离化所需种子电子主要来源于多光子离化。 |
| 学科主题 | 光学薄膜 |
| 分类号 | TN249;O242.1 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2009-09-22 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4628]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 黄才华,薛亦渝,夏志林,等. 短脉冲激光辐照下熔融石英薄膜的损伤机理[J]. 武汉理工大学学报：信息与管理工程版,2008,30(6):905, 908. |
| APA | 黄才华,薛亦渝,夏志林,赵元安,杨芳芳,&郭培涛.(2008).短脉冲激光辐照下熔融石英薄膜的损伤机理.武汉理工大学学报：信息与管理工程版,30(6),905. |
| MLA | 黄才华,et al."短脉冲激光辐照下熔融石英薄膜的损伤机理".武汉理工大学学报：信息与管理工程版 30.6(2008):905. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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