高反射率193nm反射膜的实现
文献类型：期刊论文
| 作者 | 尚淑珍 ; 赵祖欣 ; 邵建达 ; 范正修 |
| 刊名 | 应用激光
 |
| 出版日期 | 2008 |
| 卷号 | 28期号:1页码:19 |
| 关键词 | 193nm 反射膜 反射率 光学稳定性 |
| ISSN号 | 1000-372X |
| 其他题名 | The Achieving of High-reflectance 193nm HR Coatings |
| 中文摘要 | 对应用于193nm反射膜的基底材料、薄膜材料、沉积技术与主要沉积工艺参数进行了分析与优化选择，在此基础上进行了193nm反射膜的设计、制备及后处理，实现了时间稳定性与环境稳定性良好的193nm反射膜，反射率达98％以上。 |
| 学科主题 | 光学薄膜 |
| 分类号 | O484.4 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2009-09-22 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4640]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 尚淑珍,赵祖欣,邵建达,等. 高反射率193nm反射膜的实现[J]. 应用激光,2008,28(1):19. |
| APA | 尚淑珍,赵祖欣,邵建达,&范正修.(2008).高反射率193nm反射膜的实现.应用激光,28(1),19. |
| MLA | 尚淑珍,et al."高反射率193nm反射膜的实现".应用激光 28.1(2008):19. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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