高性能193nm反射膜的制备与误差分析
文献类型：期刊论文
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| 作者 | 尚淑珍 ; 徐山清 ; 邵建达 |
| 刊名 | 应用激光
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| 出版日期 | 2008 |
| 卷号 | 28期号:3页码:207 |
| 关键词 | 193nm 反射膜 误差分析 吸收 散射 |
| ISSN号 | 1000-372X |
| 其他题名 | The Preparation and Error Analysis of High-property 193nm HR Mirrors |
| 中文摘要 | 分析了膜厚控制误差对反射膜设计曲线的影响，发现高低折射率材料厚度反方向变化时（高折射率膜层厚度增加，低折射率膜层厚度减小），反射膜的反射率变化不明显，设计的膜系结构对这种膜厚变化方式的制造误差宽容。在此基础上制备了193nm反射膜，结果表明退火前光学损耗相对较大，实验结果与理论计算结果存在一定差距，并且散射损耗在总的光学损耗中所占比例很小，而吸收损耗占光学损耗的主要部分，起主导作用。退火后光学损耗明显下降，实验结果与理论计算结果更为接近，193nm反射膜的反射率达98％以上。散射损耗增加至接近吸收损耗的水平，不过在总的光学损耗中仍然占比较小的比例。说明当吸收损耗下降到一定程度时，散射损耗所起的作用也是不可忽视的。 |
| 学科主题 | 光学薄膜 |
| 分类号 | TN248.4;TQ171.71 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2009-09-22 ; 2010-10-12 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4642]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 尚淑珍,徐山清,邵建达. 高性能193nm反射膜的制备与误差分析, The Preparation and Error Analysis of High-property 193nm HR Mirrors[J]. 应用激光,2008,28(3):207. |
| APA | 尚淑珍,徐山清,&邵建达.(2008).高性能193nm反射膜的制备与误差分析.应用激光,28(3),207. |
| MLA | 尚淑珍,et al."高性能193nm反射膜的制备与误差分析".应用激光 28.3(2008):207. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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